张掖市房产网

您现在的位置是:首页 > 太极拳

太极拳

循环水泵的一种的英文翻译 中国的光刻机技术和荷兰的光刻机技术,关键点的区别到底在哪?

2021-06-20 16:59:40太极拳
请问中央空调系统中水泵的英文缩写有哪些?CWP CH CHWP SCHWP PCHWP CDP MWP HWP是什么缩写?根据循环水泵流量大、扬程低的工作特点,目前,大机组的循环水泵一般采用混流泵。混流泵的主要性能特点是:①具有随着流量减少扬程增加的倾向
循环水泵的一种的英文翻译 中国的光刻机技术和荷兰的光刻机技术,关键点的区别到底在哪?

请问中央空调系统中水泵的英文缩写有哪些?CWP CH CHWP SCHWP PCHWP CDP MWP HWP是什么缩写?

根据循环水泵流量大、扬程低的工作特点,目前,大机组的循环水泵一般采用混流泵。

混流泵的主要性能特点是:

①具有随着流量减少扬程增加的倾向。

②在整个流量范围内功率变化小,原动机不需要留有较大的裕量。

③与轴流泵相比,混流泵的高效区域宽。

④与轴流泵相比,混流泵出口阀关闭时耗功小,并能适应较大的水位变化。

中国的光刻机技术和荷兰的光刻机技术,关键点的区别到底在哪?

cwp是冷却水泵,chwp是冷冻水泵,hwp是热媒水泵,其他的就要问那设计师本人了

扬程的英语翻译,扬程用英语怎么说?

中国的光刻技术和荷兰ASML的EUV光刻技术,关键点的区别在于采用紫外光源的不同和光源能量控制。

一、中国光刻技术采用193nm深紫外光源,荷兰ASML的EUV采用13.5nm极紫外光源。

光刻是制程芯片最关键技术,制程芯片过程几乎离不开光刻技术。但光刻技术的核心是光源,光源的波长决定了光刻技术的工艺能力。

我国光刻技术采用193nm波长的深紫外光源,即将准分子深紫外光源的波长缩小到ArF的193nm。它可实现最高工艺节点是65nm,如采用浸入式技术可将光源缩小至134nm。为提高分辨率采取NA相移掩模技术还可推进到28nm。

到了28nm以后、由于单次曝光的图形间距无法进一步提升,所以广泛使用多次曝光和刻蚀的方法来求得更致密的电子线路图形。

荷兰ASML的EUV光刻技术,采用是美国研发提供的13.5nm极紫外光源为工作波长的投影光刻技术。是用准分子激光照射在锡等靶材上激发出13.5nm光子作为光刻技术的光源。

极紫外光源是传统光刻技术向更短波长的合理延伸,被行业赋予了拯救摩尔定律的使命。

当今的ASML的EUV光刻技术,巳能用13.5nm极紫外光制程7nm甚至5nm以下芯片。而我国还是采用193nm深紫外源光刻技术,如上海微电子28nm工艺即是如此。

虽然我们采用DUV光刻技术通过多重曝光和刻蚀方法提升制程工艺,但成本巨大、良率较低、难以商业化量产。所以光源的不同导致光刻技术的重大区别。

二、在光刻技术的光源能量精准控制上,我国光刻技术与荷兰的EUV也有重大区别。

光刻技术的光学系统极其复杂,要减小误差达到高精度要求,光源的计量和控制非常重要。它可通过透镜曝光的补偿参数决定光刻的分辨率和套刻精度。

光刻技术的分辨率代表能清晰投影最小图像的能力,和光源波长有着密切关係。在光源波长不变情况下,NA数值孔径大小直接决定光刻技术的分辨率和工艺节点。

我国在精密加工透镜技术上无法与ASML采用的德国蔡司镜头相比,所以光刻技术分辨率难以大幅提高。

套刻精度是光刻技术非常重要的技术指标,是指前后两道工序、不同镜头之间彼此图形对准精度。如果对准偏差、图形就产生误差,产品良率就小。

所以需不断调整透镜曝光补偿参数和光源计量进行控制,达到满意的光刻效果。我国除缺少精密加工透镜的技术外,在光源控制、透镜曝光参数调整上也是缺乏相关技术的。

我国在5G时代、大数据和人工智能都要用到高端芯片,离不开顶尖的光刻技术,这是必须要攀登的“高峰”。相信我国刻苦研发后能掌握先进的光刻技术和设备,制程生产自己所需的各种高端芯片。